半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)の定義と市場概況
半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)は、フォトリソグラフィ工程における代表的な高純度溶剤として広く使用されており、フォトレジスト調合、エッジビード除去(EBR)、バック/エッジリンス、ノズル・カップ洗浄、選択的リワーク、製造ラインのメンテナンスなど多岐にわたる用途を担っている。実際の製造現場では、溶解性や蒸発挙動、流動特性を最適化する目的で、PGMEAと所定比率でブレンドして使用されるケースが一般的である。
品質面では、エレクトロニクス/ULSIグレードとして、金属不純物はサブppbレベル、水分量および不揮発残渣(NVR)の極低化、粒子数の厳格管理、ならびに蒸発速度・表面張力・粘度の再現性が要求され、SEMI Cシリーズのガイドラインおよびサプライヤー独自の高度分析によって認証・管理されている。技術的には、汎用品PGMEを多段蒸留、金属イオン捕捉、サブミクロンフィルtration、超清浄フッ素樹脂容器による充填工程を経て高純度化し、その後も流体経路におけるポイント・オブ・ユース(POU)フィルtrationによって再汚染を防止する。
主要サプライヤーは「ファブ近接型(near-fab)」の供給体制を特徴としている。DowはELECPURE™ PM/PM Electronic Gradeを展開し、シンナー、EBR、洗浄用途向けに金属不純物を通常1 ppb未満に管理している。FUJIFILM Electronic Materialsは、EntegrisのElectronic Chemicals事業を買収後、米国、欧州、シンガポールにまたがる湿式化学品および高純度溶剤のグローバル供給ネットワークを運営している。関東化学(Kanto PPC)は、フォトリソグラフィ向け高純度バルクケミカルとしてPGME/PGMEAを提供しており、林純薬工業はICP-MS/MS管理下で金属不純物を通常50 ppt以下に抑えた超高純度PGME/PGMEAを供給している。さらに、ENF Technologyやダイセル(Daicel)などのアジア系メーカーも、EBR、プレウェット、シンナー用途を中心に市場に参入している。
用途面では、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)は特定条件下でエッジリンス時の溶解除去速度が速く、サイクルタイム短縮やエッジライン制御の改善に寄与するケースがある。供給・使用面では、PFA容器および配管、ならびにPOUフィルターの採用が標準となっており、再汚染や金属再溶出の最小化が図られている。
技術動向としては、EUVおよび先端ArFノードの量産化進展に伴い、不純物・粒子管理基準は一層厳格化しており、プロセス単体ではなくシステムレベルでの最適化が求められている。具体的な業界動向として、2023年10月2日にFUJIFILMはEntegrisのElectronic Chemicals事業の買収を完了し、米国、欧州、シンガポールにまたがる12拠点(うち7製造拠点)を獲得した。これは**半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)**を含む高純度電子化学品エコシステムにおける重要な業界再編事例である。

QYResearchが最新発表した「半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」市場調査報告書によると、世界半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)市場規模は2025年の約408百万米ドルから2026年には429百万米ドルへ着実に成長し、予測期間中に5.9%の複合年間成長率(CAGR)で拡大を続け、2032年には605百万米ドルに達する見込みである。
半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)市場規模(百万米ドル)2025-2032年

上記データは、QYResearch報告書「半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」に基づく
推進要因:
1. 日本における先進及び成熟プロセス併存のリソグラフィー需要による長期的な支え:日本国内では多数の成熟プロセス(90nm–28nm)と先進プロセス(EUV/ArF)が並行して稼働しており、フォトレジスト配合、EBR(エッジ・ビード・リムーバル)、バック/サイド洗浄は全ノードで必須の工程である。このため、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)は、ノードの新旧に急速に依存せず、全プロセスで通用する「普遍的な需要」を形成している。
2. 日本国内のウェハーファブの高稼働率と長寿命装置による持続的な需要牽引:日本のウェハーファブは装置の平均使用期間が長く、メンテナンス頻度が高い。このため、洗浄、リワーク、配管メンテナンス用溶剤としての消耗が安定しており、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)は、ノズル洗浄、コーティングカップ洗浄、システムメンテナンスにおいて持続的な使用量を生み出している。
3. 先進プロセスによる材料純度への極限的な要求:日本のウェハーファブは先進プロセス分野への展開を継続しており、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)の純度(金属不純物をppb/pptレベルまで低減など)、蒸発速度、表面張力制御などの性能に対して、より厳格な要求を提起している。これは、高付加価値PGME製品の研究開発と販売を直接的に駆動する要因である。
4. 「材料 - 装置 - プロセス」が深く結びついた産業エコシステム:日本の半導体材料産業は、装置製造、ウェハーファブのプロセスと深く結びついたエコシステムを形成している。重要なプロセス溶剤として、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)の仕様と性能は、フォトレジスト配合、塗布・現像装置、特定のプロセスウィンドウと高度に連携する必要があり、このような密着した需要が確固たる市場基盤を構成している。
機会:
1. 先進パッケージングと異種集積による新たな需要の創出:半導体産業が先進パッケージング(2.5D/3D IC等)へ進展するにつれ、仮貼合・剥離、TSV(シリコン貫通電極)洗浄などの新規プロセスに対する需要が増加しており、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)にとって、従来のリソグラフィー分野以外の新たなアプリケーションシナリオと市場機会が開かれている。
2. グリーンで持続可能な溶剤ソリューションにおける先行機会:環境規制への対応から、半導体製造ではより環境に配慮した溶剤やリサイクル技術の採用が進んでいる。日本の化学企業は、低揮発性、再生可能またはバイオマス由来の高純度溶剤の開発において技術的優位性を持っており、市場の「グリーン化」転換における機会を捉えることができる。
3. 「Beyond CMOS」新興技術との共進化:MRAMなどの新興メモリデバイス、パワーデバイス、MEMSなどの従来のシリコンベースではない半導体技術が発展するにつれ、その製造プロセスにおいても同様に高純度プロセス溶剤が必要とされる。日本はこれらの細分化された分野において強固な展開を有しており、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)に差別化的な成長の余地を提供している。
4. EUV及び次世代ArFノードにおける高純度グレードへのアップグレード需要:先進ノードでは、微量金属、NVR(不揮発性残留物)、微粒子に対する要求が一層厳格化しており、高規格の半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)には価格プレミアムが発生する可能性がある。これは、最高品質の電子グレード製品の販売数量拡大に有利に働く。
制約する要因:
1. 日本国内における少数の大口顧客への依存度の高さと顧客集中リスク:ウェハーファブの数が限られているため、需要が集中する傾向にある。単一顧客のプロセス変更や減産は、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)の販売に対し、過度に大きな影響を与える可能性がある。
2. 代替溶剤及び低使用量プロセスからの潜在的衝撃への直面:一部の先進プロセスでは、溶剤使用量の低減や新しい溶剤体系の導入が試みられており、長期的には半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)に対して構造的な圧力となる可能性がある。
3. 日本における超微量金属及び微粒子制御に伴う製造コスト圧力の制約:日本のULSI(超高集積回路)グレード基準を達成するためには、高度な蒸留、濾過、検査が必要となり、半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)の設備投資コスト及び運営コストが大幅に上昇する。
この記事は、QYResearch が発行したレポート「半導体用プロピレングリコールメチルエーテル(PGME)―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」
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